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[讨论] 厚膜的比例膜厚监控问题

 火... [复制链接]
发表于 2011-6-7 14:33:01 | 显示全部楼层 |阅读模式
有没有高手做过厚膜的膜厚比例监控?
基板沉积100μ,但是石英头子上只沉积10μ。通过套筒或其他装置使得石英头子上沉积的膜少些,延长晶振片寿命。
发表于 2011-9-29 15:42:24 | 显示全部楼层
这是个好主意啊,第一次听说。省钱秘笈
发表于 2011-9-29 21:57:25 | 显示全部楼层
μm级别的你可以考虑用一下时间控制,好多晶控仪都有这个功能,个人觉得省一个水晶和废一灶产品之间还是要权衡再定!!
发表于 2011-10-1 10:58:10 | 显示全部楼层
也可参考某晶控的 RateWatcher 功能。
监控一段时间(取样),然后挡住水晶Sensor, 挡住期间用监控时的平均功率输出。
这种方法需要你的蒸发源相对稳定。

//借问一下, 100um厚度大概已不是光谱要求了,那是出于什么样的功能需求呢?
 楼主| 发表于 2011-10-10 14:34:59 | 显示全部楼层
otxtc 发表于 2011-10-1 10:58
也可参考某晶控的 RateWatcher 功能。
监控一段时间(取样),然后挡住水晶Sensor, 挡住期间用监控时的平均 ...

你的主意很好。
我们也这么考虑过。
厚膜做X射线闪烁体用的。
发表于 2011-10-10 20:52:58 | 显示全部楼层
如果速率真的稳定,或许直接用时间控制更方便。
固定蒸发功率,蒸发一定时间,用台阶仪量厚度(什么方法无所谓),然后换算出速率。 以后就是速率乘以时间的事情。
看你的工艺了。
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