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光电工程师社区»光电论坛 › 光电理论及应用技术 › 光学镀膜技术及膜系设计 › 磁控溅射

磁控溅射

2.8k 5
发表于 2003-6-9 17:19:00|浙江 | 查看全部 阅读模式
有没有高手可以讲一下磁控溅射的工艺和要点啊？
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回复|共 5 个

ic5 Lv.12 发表于 2003-6-9 22:10:00|江苏 | 查看全部

磁控溅射

好！我也很想了解！能说详细点更好！
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冷风残阳 Lv.3 发表于 2003-6-11 17:50:00|福建 | 查看全部

磁控溅射

好好我也拭目以待
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nation Lv.8 发表于 2008-7-8 21:36:18|广东 | 查看全部
和电子枪一个道理。
只是蒸发源不同而己
我想可以这样理解。
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luopr Lv.5 发表于 2008-9-8 14:06:15|广东 | 查看全部
磁控溅射简单的理解就是让靶和充入的气体各带不同电荷，在相吸的情况下把膜了撞击出来．在充氧的情况下形成氧化物再沉积到基片上的过程．
有没有了解过老毛子的一种带弯靶的溅射机，弯度是９０度．弯靶中有一种装置－－龙骨，可以过滤溅射出来的膜料分子，可以做出更致密的膜层．哈哈　和平面靶不同吧？
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yiheng Lv.3 发表于 2009-1-18 15:06:54|北京 | 查看全部
楼上说的是磁过虑多弧源吧?90度的磁场跑道将离子引出,把大液滴挡掉,但是效率要降低很多.
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