磁控溅射

xyqy · 发表于 2003-6-9 17:19:00

有没有高手可以讲一下磁控溅射的工艺和要点啊？

ic5 · 发表于 2003-6-9 22:10:00

好！我也很想了解！能说详细点更好！

冷风残阳 · 发表于 2003-6-11 17:50:00

好好我也拭目以待

nation · 发表于 2008-7-8 21:36:18

和电子枪一个道理。
只是蒸发源不同而己
我想可以这样理解。

luopr · 发表于 2008-9-8 14:06:15

磁控溅射简单的理解就是让靶和充入的气体各带不同电荷，在相吸的情况下把膜了撞击出来．在充氧的情况下形成氧化物再沉积到基片上的过程．
有没有了解过老毛子的一种带弯靶的溅射机，弯度是９０度．弯靶中有一种装置－－龙骨，可以过滤溅射出来的膜料分子，可以做出更致密的膜层．哈哈　和平面靶不同吧？

yiheng · 发表于 2009-1-18 15:06:54

楼上说的是磁过虑多弧源吧?90度的磁场跑道将离子引出,把大液滴挡掉,但是效率要降低很多.