离子源工作原理

[这个贴子最后由流明在 2003/06/17 11:39am 第 1 次编辑]

離子輔助蒸鍍法(Ion-beam Assisted Deposition , IAD)其原理是利用高壓放電使通入之反應氣體激發產生電漿(Plasma)，並將其局限在一小腔體內，再利用偏壓或其它方式，將離子束引至鍍膜基板進行離子轟擊，由離子源所發射出來的大質量且大動能的離子，藉著碰撞把動量傳給由電子槍所蒸發的原子或是分子，使它們有足夠的大動能，來改善鍍膜層與基板間的附著力及提高臨界成核生長的速率與密度，因此在膜層的成型與成長過程中，能使蒸發的原子或是分子能夠把孔洞等膜質缺陷補起來，形成膜質緻密、缺陷少的連續膜。因為膜質緻密，即其堆積密度(Packing Density) 升高、膜質的吸水性變小，使得光學光譜特性穩定而不漂移，折射率升高而穩定且均勻及粗糙度降低等優點。因此對於不能加溫的基板如塑膠基板，離子助鍍可使其大部份的膜層設計變得可能與容易實現，對於大體積的基板因可不用再加熱，故可以減少加熱與退溫的時間而提高生 率。   

！谢！但不值啊。贵。

是啊，这点东西，20块，太贵，说详细点、全面点，好吗？

谢谢两位,既然这样,那我就..................
先不买了,xixi,等详尽点的资料出来再买,hoho  

繁体字，头晕！

干啥呢，随便抄点就收钱？

天理难容啊

请说明哪种离子源：Kaufman,Hall,APS or RF ...?

基本上原理都差不多。就是把某种材料加热然后就产生电子。电子遇到惰性气体产生碰撞电离，电离成离子和一部份电子。离子就是这样来的了。再加偏转磁场和高压。离子就可以按一定的轨迹高速飞出。

建议大家有兴趣的话，可以去借一本东北大学出版社出版的《真空镀膜技术与设备》，上面可以找到各种镀膜方法的原理描述。

谢谢楼主 !!!非常好

谢谢～！ ，学习了。