提供镀膜、曝光、刻蚀服务（补充）

我实验室专业从事各种镀膜、曝光、刻蚀研究，可附带从事加工服务。


镀膜厚度15纳米~1000纳米，同时可进行膜层厚度测试；其中磁控溅射材料可以为Cr、Ag、Al、Al2O3、ZnO、SiO2、Si、Si3N4，电子束蒸镀可以为Ag、Au、Al、Cr。

刻蚀有RIE和IBE，刻蚀厚度为20纳米~5微米。


有需要的可以联系，可根据客户要求加工。

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