镀ITO的时候，出现很多whisker(细须, 须晶)

AR_coating · *发表于* 2012-5-21 14:37:30

最近镀ITO的时候，发现在wafer上有很多whisker(细须, 须晶)，但同时作为厚度验证的硅衬底上却没有。所有参数都和以前一样，不知道是什么问题？哪位专家有经验？多谢了。

shuangzixing · *发表于* 2012-5-25 10:17:35

镀在啥基片上。是用单一的膜料吗

jitaomath · *发表于* 2012-9-6 22:34:17

应该是基板上有参杂形成的缺陷，
增加通氧量试试，或者减少镀率

*发表于* 2012-9-7 11:17:06

路ˋ過學習

crl0129 · *发表于* 2014-1-16 12:50:50

yuliang518 · *发表于* 2014-5-19 17:48:13

[讨论] 镀ITO的时候，出现很多whisker(细须, 须晶)