表面粗糙度的等级

请问华中地区有哪家单位可以做粗糙度的检验？另外请教大虾和斑竹，使用400目氧化铈，可以到达何种等级？min0.01um可以吗？

一般只是说能够抛到什么光洁度，比如使用400目氧化铈，对于K9材料来说，应该可以抛出1级光洁度，我曾经检验过抛光的光洁度可以达到20埃以内没问题。但是对于你所说的min0.01um指标，我不是特别了解。

福州可以测。我前一阵子将光洁度为10/5的片子（siO2抛光的）测出可以达到2nm左右。

  min0.01um,指的是Ra,还是Rz？

使用400目氧化铈加工的K9玻璃元件表面粗糙度Rq大口径（300以上）一般可以在1.2nm，左右，小口径一般在1nm以下。
不知我的回答是否是你需要的。
对了，表面粗糙度与加工工艺方法有关，还与氧化铈有关。

  我查了一下，在GB131-83中，Ra0.01um一级，指的是透镜、分划板、棱镜、反射镜（包括金属反射镜）等光学零件的抛光面，在这些表面上不允许有未完全抛光的痕迹。加工方法：用抛光粉在柏油、呢绒或其他抛光模上抛光得来

  谢谢各位相助！从各位的解答中，我是不是可以认为：400目的抛光粉只可以达到1-2nm的粗糙度？因为，我在抛光石英材料时，发现我即使再怎么延长抛光时间，也达不到更好的光亮度效果(用弱反光观察和测试间接指标,此时已不考虑面形)。那么若要达到〈0.5nm，对于石英玻璃来说，大虾有何高见吗？

石英材料的粗糙度可以达到5-7nm(Rq)；加工时与抛光粉种类、粒度、均匀性、浓度；抛光膜层材料有关，还与检测时的取样面积有关。

你可以将抛光后的片子用酸或碱进行清洗一下。因为抛光后表面有一层变质层。那样可能会好一些。是做外延生长用的基片吧。

答LZK，不是的。您所说的变质层是所谓抛光化学作用的结果吗，据说是一层折射率较被抛材料高的物质？不知可有研究？是用弱酸碱还是强酸碱去除？
问mincailiu ：石英材料的粗糙度只可以达到5-7nm(Rq)？是否是你已知工艺可达到的最好吗？

大概40%左右

       我最近刚用角锥产品做了一个粗糙度的实验，其结果相对还比较理想Ra的平均值在0.4nm，Rq：0.5nm以内；只是做这个实验时化费的时间是正常加工的2倍。做法是先用SiO2把面形抛好，然后用更细的粉再抛4~6小时。
    顺便在此请教各位大虾有没更好的方法既可以确保Ra<0.5nm，Rq<0.6nm，又可提高生产效率。谢谢