高精度抛光工艺 进口FUJIMI抛光布 分享

在电子, 光学等精密抛光的工艺中,抛光的机理远较研磨复杂. 抛光不是只靠单纯的机械作用,而是连同特别的化学作用一道, 令到工件的表面光洁度愈趋完美.是否可以达到设计的抛光效果,绝不可忽视抛光垫的重要性.除了硬度,密度,厚度等一般的规格外,垫面的材料,垫面微孔的孔径,排列等等能否同抛光浆料的成分, 粒度以及工件的材料配合, 都是需要综合考虑的.
        SSURFIN XXX-5
        SSURFIN XXX-5是一种非编织，硬性织维抛光布。主要用于砷化钾和其他半导体的减薄。粗抛工序。当在中或高的压力下使用时，这种抛光布具有理想的压缩组合与适当比例的渗透特性，使抛光布的填充减轻，而保持便面加工的平坦性以及高质量的精细加工效果。更为重要的是，本产品经久耐用，从而减低成本。
        SURFIN 018-3
        SURFIN 018-3是一种泡面结构的革质研磨布。由于经过特殊处理，本品有快速的启动性，并有良好的耐酸性，耐碱性，因此能保持稳定，持续，有效的抛光过程从而得到均匀的抛光表面。此产品适用于抛光各式金属磁盘，例如铝，镍。本品可提供一个无损伤，无橙色脱皮，无瑕疵的高质量抛光表面。
        SURFIN 000
        SURFIN 000是为精细抛光而设计的抛光布。由于它的聚氨脂外层极为柔软，具有极密，微小的毛孔层，因此这种抛光布适用于产生高之恋的无雾状，无穗状的抛光表面。
        SURFIN SSW-1
        SURFIN SSW-1是一种绒面革质的抛光布。与SURFIN 000相比，本产品采用了不同的聚氨脂材料，加长了毛孔长度，从而缩短了起动整理的时间。本品尤其适合于抛光硅片，砷化钾，磷化铟。
        SURFIN 191
        SURFIN 191是特别为精密抛光砷化镓片和硅片而设计的抛光布。抛光后的晶体表面质量上乘，无雾状。SURFIN 191的革质泡沫外层与基础不了用胶粘剂粘合，与传统产品相比，在质量和持久性上，有巨大的提高。因基础布料的厚度与材料的改变，本品适用于广泛的抛光条件。
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