低辐射玻璃膜层材料光学常数的提取

低辐射玻璃膜层材料光学常数的提取
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2015-7-12 21:30 上传

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作　　者：张婉思
机构地区：上海北玻镀膜技术工业有限公司
出　　处：《建筑玻璃与工业玻璃》 2014年第9期 13-17页,共5页
摘　　要：本文主要讨论了采用光谱法提取低辐射玻璃膜层介质材料SixNy和ZnAlOx光学常数。在北玻SE2540离线磁控溅射镀膜生产线上，以6mm白玻为基片，制备SixNy和ZnAlOx单层膜样片。使用紫外一可见分光光度计lambda950测得样片380～2500nm波长范围内的光谱数据；使用XP-200台阶仪测得膜层的实际厚度。使用code软件构建材料模型和膜系结构，以光谱法拟合提取材料的光学常数，并同时得到膜层的厚度。两个样片的拟合膜厚值与实测膜厚值误差分别为5．28％、0．22％，均小于6％，从而验证了所提取光学常数的准确性。
关键词：光谱法 低辐射玻璃 磁控溅射镀膜 光学常数 膜厚