光栅刻写平台紫外刻写怎么样？

光栅刻写平台紫外刻写怎么样？
准分子激光系统 提供光栅刻写激光光源，一般采用波长为193nm ArF/ 248nm KrF的准分子激光系统，其脉冲的能量和频率可以根据实际的需求进行选择
刻写光学系统 进行光束的准直、扩束、幅度的调控和聚焦，从而保证光栅的不同需求保证光栅的质量
光纤夹持系统 进行可不同芯径光纤刻写的加持、外力波长精确调谐和控制
光栅测试系统 对光栅的波长、反射率、带宽、边模、偏振模、高阶模等特性的测试
载氢光学增敏系统 通过高压载氢进行光纤光敏增强，便于在光栅的纤芯形成折射率的调制
退火消氢系统 对光纤的氢键进行加温退除，保证波长的长期稳定性
封装固化系统 对刻写栅区进行加固的保护性封装，同时可以在一定程度进行温控处理
记录文档 对光栅之辈的整个流程进行记录，保证光栅制备的一致性和可重复性