光刻本公司美国图形发生器,该设备主要利用光刻正胶或负胶,在感光板上制作用于加工集成电路的高精度、高品质掩膜版,也可根据需求制作优质的光学码盘、码尺、分划板、标尺、光栅、镀盘、鉴别率板等精密光学零件的母板和任意图形,并可批量生产零件。光刻机性能参数: 可加工最小线宽: 直接光刻 2.5 微米;重复步进 1 微米 最大加工范围: 152毫米 × 220毫米 定位精度: 0.38微米
全程误差: 0.26微米 最小可控制增量: 0.1微米 13057610151 钱先生qjs69@126.com
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