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光刻
本公司美国图形发生器，该设备主要利用光刻正胶或负胶，在感光板上制作用于加工集成电路的高精度、高品质掩膜版，也可根据需求制作优质的光学码盘、码尺、分划板、标尺、光栅、镀盘、鉴别率板等精密光学零件的母板和任意图形,并可批量生产零件。
光刻机性能参数：
可加工最小线宽： 直接光刻 2.5 微米；重复步进 1 微米
最大加工范围： 152毫米 × 220毫米
定位精度： 0.38微米 全程误差: 0.26微米
最小可控制增量： 0.1微米
13057610151 钱先生qjs69@126.com
[此贴子已经被作者于2007-4-26 17:37:28编辑过]
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