PMMA上镀SiO2与TiO2，工艺条件为何？

victorrose · *发表于* 2008-8-31 01:32:17

请教各位先进
若要在PMMA上镀SiO2与TiO2，工艺条件为何？

victorrose · *发表于* 2008-9-9 02:07:29

有试将PMMA基材以70度C的温度加热30分钟，之后先用离子枪做清洁，再进行镀膜（无IAD，制成温度为70度C），结果SiO2及TiO2无法接着在PMMA上。请问是哪制程出了问题？

nation · *发表于* 2008-9-11 15:17:58

其它条件呢？？？？？

victorrose · *发表于* 2008-9-13 03:42:09

压力：1.5*10^-3Pa，还需要知道哪些条件？

victorrose · *发表于* 2008-9-17 22:57:57

是否有先进做过此制程，小弟还在努力中…

HOM2 · *发表于* 2008-9-18 07:40:34

第一层不能用电子枪蒸镀。也不用离子源清洁。

fawang · *发表于* 2008-9-18 19:20:53

原帖由 HOM2 于 2008-9-18 07:40 发表
第一层不能用电子枪蒸镀。也不用离子源清洁。

？？？那要怎样镀第一层？难道小功率清洁10s也不行？

martin1980 · *发表于* 2008-9-19 10:53:11

没有离子辅助膜肯定不牢的.

jhxxmlhk · *发表于* 2008-9-19 11:04:43

TiO2 Rate=0.5nm/sec APC=1.4E-4Torr
SiO2 Rate=2.5nm/sec APC=8.0E-5Torr
IAD USE

Hall Ion Beam Source)
               Anode Voltage  180V
               Anode Current 6A
               Filament  Current  15A
Etching before coating 3min
Temp:60  Delay Time:30min
Material: CR39? MR200?

tfc · *发表于* 2008-9-19 14:08:00

人家问的是PMMA啊！
先加硬是一个办法。

宇宙深处 · *发表于* 2008-9-20 08:57:20

在压克力板上镀SIO2、TI3O5应该是没有问题的。镀前烘烤与清洁也是没有问题的。真空1.5*10-3也是足够的。膜无法附着、或附着力不强。
可能是：
1、真空计被污染，呈现出假真空。
2、PMMA防滑剂太厚。
3、蒸发SIO2时释放出较多的O2以至真空不够高

qx__wei · *发表于* 2008-9-20 15:25:13

必须离子镀，IAD。SiO2 Rate=2.5nm/sec ，是不是太高了，转架RPM?

PMMA上镀SiO2与TiO2，工艺条件为何？

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