LN晶体镀膜出现的斑、印迹、点子问题？

jeh · *发表于* 2003-7-23 21:25:00

最近我在镀LN（条状、片状）晶体后，用体视显微镜观察，会发现产品表面，包括膜层里面和膜层外面出现了斑、印迹、点子！不知哪位有过这方面的经历，如何改进会减少这方面的影响？
在其他晶体上也会发现这些问题？谢谢各位的支持！！

hgw2001 · *发表于* 2003-7-23 23:41:00

镀晶体最大的问题就是光洁度不过关。所以要非常注意这方面的问题。要保持真空室内的清洁、夹具的清洁、工件盘的清洁、以及擦试的质量。还有就是镀完光纤后不可镀晶体。如果是这样的话光洁度会很差。

xfx9721 · *发表于* 2003-7-24 04:11:00

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jeh · *发表于* 2003-7-26 00:35:00

擦拭液有没有影响，我们一般使用“酒精：乙醚=1：1”的擦拭液？
镀前清洗用什么方法比较干净，后道工序比较易加工，包括擦拭？？

liumengdrago · *发表于* 2003-8-30 01:21:00

你搽洗为什么不用丙酮而用乙醚？在加工过程中，一定要完全烘干LN，否则容易出现上述现象。另外，LN本身的抛光精度，也会导致上述现象的发生，只好对LN进行仔细的检验才能避免！

eagle1 · *发表于* 2004-4-5 04:54:00

楼上的几位说的在点子上了。

我觉得你的斑、印迹应该是你清洗的问题，最经典的方法是先用丙酮，然后是甲醛和去离子水清洗；最后用氮枪吹干。之后放在炉子里完全烘干。

zz · *发表于* 2004-4-5 06:16:00

How can I detect the LN surface quality before coating?

linqifu · *发表于* 2004-7-14 01:21:00

LN本身容易带静电就容易吸灰尘，如果解决静电问题那光洁度会好很多。

酒精乙醚1：1效果也很好。

lczhy00001 · *发表于* 2004-7-14 02:45:00

一派胡言!

LN晶体材料最好的清洗办法是

!\人工清洗

先用高锰酸钾和浓硫酸清洗,然后用DI水超声,最后用酒精脱水.

2\机器清洗

高锰酸钾和浓硫酸清洗,然后用DI水超声,在清洗槽中用热氮气吹干\甩干!

用手清洗是清洗不掉的,我公司专门生产LN晶体和加工器件的,这是最好的清洗办法,连美国佬也是这种工艺!

chugqchugq · *发表于* 2004-7-15 23:26:00

楼上说得对

zz · *发表于* 2004-7-16 16:09:00

对啥？那啥是手工清洗不掉的？？

lczhy00001 · *发表于* 2004-7-28 23:28:00

以下是引用jeh在2003-7-25 16:35:41的发言： 擦拭液有没有影响，我们一般使用“酒精：乙醚=1：1”的擦拭液？镀前清洗用什么方法比较干净，后道工序比较易加工，包括擦拭？？

乙醚麻醉作用。不能人工清洗晶片。

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