[技术] 窄带滤光片 设计

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发表于 2011-6-25 16:00:30|江苏 | 查看全部 阅读模式
悬赏10光电贝
2010122516246448.jpg

求高手指点设计膜堆,使用TI/SIO2靶材

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yin99 发表于 2011-6-26 19:32:38|四川 | 查看全部
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wazxq Lv.10 发表于 2011-6-27 13:20:37|广东 | 查看全部
不知道楼主的具体要求,看楼主贴图曲线这个明显不是三腔可以达到。
还是贴出具体要求的好
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ghtzna 楼主Lv.9 发表于 2011-6-28 16:47:52|江苏 | 查看全部
wazxq 发表于 2011-6-27 13:20
不知道楼主的具体要求,看楼主贴图曲线这个明显不是三腔可以达到。
还是贴出具体要求的好

T50= 左825  右875NM
带宽基本在50NM,截止深度OD3 或OD2  在750-800nm 900-1000NM     1001 -1100 nm T(AVG) <1%
其余可见光截止 即可
目前主要是设计问题,带宽不好找适当的膜堆。求高手了
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liguang Lv.7 发表于 2011-6-29 22:37:28|广东 | 查看全部
高手啊
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xiaolan125 Lv.6 发表于 2011-6-30 17:04:51|福建 | 查看全部
高手
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wazxq Lv.10 发表于 2011-6-30 22:15:21|广东 | 查看全部
本帖最后由 wazxq 于 2011-6-30 22:17 编辑

这个至少要用5cavity  ,

不过以这个实际情况用35-40层的膜去优化更好,主要看用什么设备来实现
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sery1234 Lv.8 发表于 2011-7-1 08:41:06|福建 | 查看全部
关注中,
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ranguangpu Lv.7 发表于 2011-7-2 10:33:09|广东 | 查看全部
继续顶啊,学习学习
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ghtzna 楼主Lv.9 发表于 2011-7-2 13:38:52|江苏 | 查看全部
wazxq 发表于 2011-6-30 22:15
这个至少要用5cavity  ,

不过以这个实际情况用35-40层的膜去优化更好,主要看用什么设备来实现

使用的光驰机台,调试的过程中还发现HB 800 基板表面容易氧化,镀完膜后拉膜脱膜。
真希望用D263T基板,但是客户指定的哈
努力改善中
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filmokay Lv.8 发表于 2011-7-3 10:14:05|广东 | 查看全部
本帖最后由 filmokay 于 2011-7-3 10:15 编辑

光驰机也可以装靶材了?
还是把要求写下来,看你贴的图里面好像是很多杂峰(截止带).
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ghtzna 楼主Lv.9 发表于 2011-7-3 10:22:45|江苏 | 查看全部
filmokay 发表于 2011-7-3 10:14
光驰机也可以装靶材了?
还是把要求写下来,看你贴的图里面好像是很多杂峰(截止带).

T50= 左825  右875NM
带宽基本在50NM,截止深度OD2  在750-800nm 900-1000NM     1001 -1100 nm T(AVG) <1%
其余可见光截止 即可
光驰机台离子镀啊,靶材就是药材了,可能叫法 不一样
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