讨论一种新镀膜机,帮我解惑,谢谢

当然也说不上新了,好多年前都有人在搞这个东西了.
倾斜式行星基底固定架,一腔室中有三个这样这样的架子,如果放平了呢就是三个圆屋顶式基底架,这样的三个倾斜架,如何调整膜均匀呢?修正板我想是没地方可装了.
我看到一款机是这样的,并且有一电子枪是放在中间的,试镀出来的三个倾斜的圆架子中间膜色基本一致,但每个架子的边缘膜薄,怎么样调整呢?我认为只能从架子的倾斜度,转速,电子枪的蒸发角度,如果热镀的话再考虑下加热系统
,大家讨论下.
另外电子枪放在中间,我也是比较纳闷,按道理蒸发源中腔体中心轴距离应该是架子的中心位置(一般也就是比较片位置)与腔底中心位距离的1/3,可是他却放在中间,按照膜分布推导公式推出,枪源在中心位置镀出的效果等同于平行圆顶式不加修正板镀出中间膜厚均匀,周边不一致.放在中间只有一个效果,避免了蒸发料打在腔壁上反弹到基底上,破坏基底的品质.对于用户来讲,限制了制品扩展.

所以,请大家讨论.帮我解惑.谢谢

全是资料下载的,没办法,自己先顶一下子

这种机器的枪就应该在中间的。按照均匀性理论，如果电子枪在镀膜的工件盘构成的圆的圆弧上，那么枪就应该放中间；如果枪在镀膜工件盘的圆的直径上，才要放在1/3处。
欢迎探讨：x_x_x_f@sina.com

3#说得对.但也并非一定要中间.均匀性是完全可以解决的.但比较麻烦.有镀膜机厂想搞好,化很多时间\成本都没搞好.技术这东西,不说,值很多万钱,说了,就只值一餐饭了.所以要先定价.知识产权.

好，4#说出来，我请你吃饭好了，呵呵
我不是搞设备的，从相关设备宣传资料上看到，所以想了解了解。
我请教过一位老工程师，他说年轻的时候用计算机做过理论推导，无论是哪种结构，电子枪放中间意义都不大。而且在镀反光碗时只能镀中间部分可以镀到，边缘大部分薄膜不均。镀平面镜可以。
所以我所知道的减小架子倾斜角度，改变枪的蒸发角度（即枪的位置）和公自转的速度比以外来调整膜均匀，哪么是否还有另外的方面呢？

再看各个厂家光学镀膜机资料，日本机没有这种结构，韩国机有大部分是平行式行星结构，国内就看到南光有。
从用户的角度来讲，我不喜欢，除了产量多一点，理论上均匀性好一些一外，工件上下是不是很麻烦？制品在镀制中翻来覆去会否增加表面不良？3#也讲了，均匀性调整也是非常麻烦的，在批量生产中均匀性是否像圆拱式结构一样经常调整均匀性？
再回到问题的中心点：如何调整膜厚均匀性？每个架子的中间2/3区域的膜均匀我不怀疑，边缘呢？

我希望坛子是互动的，缺少了互动的坛子是没有灵性的坛子！

原帖由 huang12949 于 2007-8-2 11:16 发表
再看各个厂家光学镀膜机资料，日本机没有这种结构，韩国机有大部分是平行式行星结构，国内就看到南光有。
从用户的角度来讲，我不喜欢，除了产量多一点，理论上均匀性好一些一外，工件上下是不是很麻烦？制品在 ...

这种机器是镀高产低单价的产品,日本做高暴利机器,自然你看不到,韩国机价在与进口机之间,也看不到.国内有多少镀膜机厂家就有多少人做这种机器.莱宝就有,只是国产发展到过头点。你不喜欢可能是没怎么用过也没真心挖它的潜力.

原帖由 huang12949 于 2007-8-2 11:05 发表
好，4#说出来，我请你吃饭好了，呵呵
我不是搞设备的，从相关设备宣传资料上看到，所以想了解了解。
我请教过一位老工程师，他说年轻的时候用计算机做过理论推导，无论是哪种结构，电子枪放中间意义都不大。而 ...

你请教过的工程师思路不够广或者是专于用理论来解释。其实关于均匀性，理论目前是不够精确的，因为均匀性多是动态的。实践才是验证标准。反光碗如果很凹，机器会更复杂，现在我就设计了让厂家做。
另外，如果要噌饭，在镀膜机厂早吃饱了。现在我即使不教，他们也同样请我的。

楼主说的均匀性，相对公自转关系不大。

TFC兄.你太牛了,哈哈
这种机我是没玩过,去年在光博会上见到宣传资,一直想看看,从图片上看,我感觉修正板应该是不存在的了,可是枪源的位置又固定死了,想不透,我还在想是不是要把电子枪朝边上挪挪?
TFC兄是专家,但是我想应该不属于保密的吧,因为用户买机子,你们肯定要培训的撒.要不哪位用过这样的机子的兄弟来说道说道?

殷切等待中。。。。。。请大侠们解答让我学习学习。