镀膜过程中充O2的目的和作用是什么?

回复|共 22 个

hamtondic Lv.5 发表于 2008-9-10 17:36:03|江苏 | 查看全部
原帖由 huang12949 于 2008-2-5 08:39 发表
离子源的作用:通俗地讲是,惰性气体分子(一般是氩气)在通过热灯丝被电离成带正电的氩离子,加速冲击基底表面,打掉基底表面上粘接不牢的膜粒或表面上残存的灰尘颗粒,从而起来清洁表面和砸实膜层的作用;离子源还可以起来 ...


这里应该不是惰性气体Ar,应该是氧气,对于有一种等离子枪是Ar和O2相结合应用的。
无语了 楼主Lv.7 发表于 2008-9-13 07:42:25|浙江 | 查看全部
我们用的离子源是又充AR气,又充O2,他们2者都是如何工作的,谢谢
mm4al Lv.6 发表于 2008-9-15 01:20:57|广东 | 查看全部
O2应该主要是氧化作用,与药材反应形成氧化物.我想请教关于O2,Ar等气体的量的大小是依据什么去控制的,为什么有些是250有些又是350或更大呢
ji8022 Lv.7 发表于 2009-1-15 13:43:38|广东 | 查看全部
各位的说明很好。哈哈
zhangking Lv.12 发表于 2009-1-15 22:40:20|江苏 | 查看全部
Ar是用来离子辅助镀,增加牢固度等作用。 有些o2是为了防止药材在高温和真空中还原了,改变了原来的性质和折射率例如Al2O3,tio2;有些o2是直接来氧化药材,如hf等
singlewolf Lv.5 发表于 2009-1-18 15:38:35|江苏 | 查看全部
o2 作用少说了一样,还可以做真空度的一个平衡的。
shuijing85 Lv.3 发表于 2009-2-18 09:40:01|广东 | 查看全部
学习了    楼主辛苦  
对不起,您的帖子小于 20 个字符的限制,请修改
gzbeseem Lv.6 发表于 2009-2-18 14:12:20|江西 | 查看全部
清洗基板,增强附着力,是膜层更致密
森林小树 Lv.6 发表于 2009-2-19 12:41:38|广东 | 查看全部
11# 宇宙深处
森林小树 Lv.6 发表于 2009-2-19 12:42:56|广东 | 查看全部
13# hamtondic


是氩气
森林小树 Lv.6 发表于 2009-2-19 12:49:39|广东 | 查看全部
镀膜加氧主要作用就是保持药材的折射率不变。电子束轰击材料会是材料脱氧,加氧使其还原。离子源主要是清洁基板,增加膜层致密度,但应力也会变大

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