镀膜前离子源清洁的目的？

Jimmy_tang · *发表于* 2011-8-5 09:22:09

唉，还是要实际使用对比后才能知道的更清楚吧。

ghtzna · *发表于* 2011-8-7 10:39:46

基本上有4大作用清洁基板物理化学反应离子轰击加强膜牢固度最重要的是辅助作用

奋斗 · *发表于* 2011-8-7 21:31:23

上面说的都不错

wangjg8955 · *发表于* 2011-8-18 21:29:50

学习了！

xiao2011 · *发表于* 2011-8-21 22:07:08

宇宙深处 · *发表于* 2011-8-22 10:31:08

路过

monggugi · *发表于* 2011-9-7 10:53:26

学习了

革命小酒 · *发表于* 2011-10-2 22:42:33

学习了

zhangmo · *发表于* 2011-11-25 15:37:05

1：清洁基片，提高基片表面质量
2：刻蚀、活化基片表面，提高膜层的牢固度

gxfdllg · *发表于* 2012-3-16 13:17:37

曲终人散 · *发表于* 2012-3-17 20:05:06

呵呵呵呵呵

心静 · *发表于* 2012-4-10 12:25:23

[技术] 镀膜前离子源清洁的目的？