镀膜前离子源清洁的目的？

tmf0123 · *发表于* 2010-9-3 13:23:12

镀膜前离子源清洁的目的？

wazxq · *发表于* 2010-9-3 22:22:45

清洗。。。。。

n21n · *发表于* 2010-9-6 12:19:46

需要喷沙，清洁目的是离子源清洗产品表面时更易清洗及真空度的影响

qjy · *发表于* 2010-9-6 21:45:13

1.清洁基底
2.增强膜层的致密性牢固性

faith3h · *发表于* 2010-9-8 19:18:51

过来学习学习！！！！

xiaowenyan · *发表于* 2010-10-13 20:20:13

zene0066 · *发表于* 2010-10-15 01:35:59

Jerry120688 · *发表于* 2010-10-19 21:14:02

1 清洁基地表面
2 活化分子提高膜层牢固性
3 提高氧化物折射率
4 刻蚀

chiyuzhou · *发表于* 2010-10-21 11:45:59

1：清洁基片，提高基片表面质量
2：刻蚀、活化基片表面，提高膜层的牢固度

shspan · *发表于* 2010-11-24 11:13:23

风寒雪月缺 · *发表于* 2010-11-24 15:32:43

JZNT · *发表于* 2010-11-24 16:43:03

1：清洁基片，提高基片表面质量
2：刻蚀、活化基片表面，提高膜层的牢固度

[技术] 镀膜前离子源清洁的目的？