介绍一种新的镀膜技术

勤学好问 · 发表于 2003-3-23 03:49:00

脉冲真空电弧离子源，也称为脉冲等离子体发生器或脉冲多弧离子源。它可在高真空下（以上），利用真空脉冲电弧放电使阴极材料蒸发并电离，形成纯净的等离子体，沉积在基片上之后形成所需膜层。由于在整个工艺过程中只产生纯等离子体，膜层性能稳定，可在低温下生成表面光滑细致且附着力极好的高质量膜层。该离子源可用于各类金属膜、合金膜以及类金刚石薄膜的镀制。采用脉冲真空电弧离子镀技术来研制类金刚石薄膜，不需要氢及其它含氢化合物，所以获得的膜层中不含氢，这一新技术目前在国内只有西安工业学院独家掌握。采用这一新技术镀制类金刚石薄膜的优点有：⑴膜层性能稳定；⑵3.4μm处无吸收峰。脉冲真空电弧离子源工作条件及相关参数：真空度： 5′10-2 Pa ~ 以上阴极工作电压： 60~400伏起弧极工作电压：300~800伏脉冲频率： 1~10Hz 电源总功率：不超过10千瓦。

ab209 · 发表于 2003-3-23 05:22:00

哪的设备？北京有么？

勤学好问 · 发表于 2003-3-24 00:19:00

这个设备是西安工业学院自制的，所以北京没有。不过你可以来西安参观参观嘛。

ab209 · 发表于 2003-3-24 01:27:00

对了，在成膜过程中样品会不会加载电压？

paganini · 发表于 2003-3-25 17:32:00

向版主大人问好！不知杭凌侠老师近况如何，毕业后未能及时与她联系，很抱歉。向她问好！

勤学好问 · 发表于 2003-3-25 17:48:00

你是西工院毕业的？杭老师最近可是人气够旺的了。不过脾气大了些。
你是哪一级的？

勤学好问 · 发表于 2003-3-25 17:56:00

向杭老师问好可以的，但是我又不知道你是谁，她也不知道，怎么问呢？你说呢？

paganini · 发表于 2003-3-29 17:41:00

我是9814班的陈伟，去年跟杭老师做毕业设计：磁控溅射镀膜均匀性研究。说来惭愧啊，现在没搞这一行。你说杭老师脾气大，我们好象没大感觉到，只是觉得她很严，在她身边要严格要求自己。很高兴能跟她做毕设。当初选毕设课题时并不了解她，做她的学生也是一种缘分啊。我现在济南的力诺集团www.linuo.com，过一阵可能要搞太阳能光光电方面的应用开发。谢谢！

勤学好问 · 发表于 2003-3-30 01:52:00

原来是老大哥，我是9914班的。我姓李。我认识你的。

dfyttt · 发表于 2003-7-23 19:08:00

这是一种等离子体成膜技术，可以在许多基体材料表面成一层均匀的薄膜，可以是金属的，也可以是高分子的，早在上个世纪六十年代国外已经利用这项技术，我作论文时想用它成膜，找了好久，知道南京大学有应用这样的设备，好象是中国科大作的。

hgw2001 · 发表于 2003-7-23 23:43:00

大家好原来西工院的这么多呀。不过我可以称是你们的师兄。

angzh030721 · 发表于 2003-7-24 15:54:00

我是9713的

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