关于修正挡板

hgw2001 · *发表于* 2003-7-16 18:29:00

谁能讲讲关于修正挡板的调整原理。

Portia · *发表于* 2003-7-16 18:38:00

一般修正挡板适用于改善或消除某固定位置上的膜厚不均匀现象。
利用修正挡板可以改变实际沉积到此位置基片上的膜材量，从而对此位置膜厚进行调整。
但有些膜厚的不均匀是由于蒸发源不稳定或膜材的不同特性表现引起的，所以几乎是无法完全消除的。

hgw2001 · *发表于* 2003-7-16 18:43:00

如果我需要调整挡板的话那我应一个什么原理来调节呢？

ic5 · *发表于* 2003-7-16 21:18:00

请问为了改善膜层的均匀性，是给蒸发源加修正板，还是给离子源加修正板，因为离子源对膜层的均匀性也有很大的影响！请大侠给予指点，从哪个方面入手更方便、更有效！

isfm · *发表于* 2003-7-16 22:03:00

非行星旋转夹具的修正挡板设计原理是首先试验获得的膜厚分布曲线，根据阴影效应计算夹具不同半径上需挡掉的旋转角度（假定基底在转动过程中膜料的沉积速率不变），就可以制得一块修正挡板；然后经过多次试验修改挡板的形状直到修正均匀

jet · *发表于* 2003-7-16 22:36:00

薄膜修正板通常修正的是薄膜的厚度，所以会放置在球照下面或蒸发源上面。由离子源造成的物理厚度可由上述的修正板修正，而折射率的不均匀就没有那么简单了。不知谁有这方面的经验？

isfm · *发表于* 2003-7-16 23:11:00

离子源引起的折射率不均匀，也许只有增加离子源与夹具的距离或者是调节离子源倾角

ic5 · *发表于* 2003-7-17 17:48:00

有谁做过通过调节离子源的修正板来达到膜层均匀的试验吗，谈谈经验好吗？谢谢了！

rambo · *发表于* 2003-7-20 18:57:00

离子源与夹具之间的距离与角度对镀膜有什么影响？？？

ofeiying · *发表于* 2003-7-21 00:47:00

最终还要归结到膜层的折射率和物理厚度上，也就是光学厚度上。
物理厚度可以从改变修正挡板的形状，
膜层的折射率只有从膜料的蒸发特性和基板温度等工艺参数方面来改变了。

Portia · *发表于* 2003-7-22 17:30:00

to Rambo：离子镀工艺过程中气体压力和蒸发速率是影响膜层物理性能的两个主要参数。
在其他条件不变的情况下增大气体压力，可提高膜层均匀性；而增大蒸发速率时均匀性反而会降低。
但为了使基片的前面和背面膜层厚度均匀，一般不采用增加气体压力的方法，而是适当增加离子源与基片间的距离，就可以提高膜层的均匀性。