[原创]弱弱的问：关于均匀性课题的问题

各位好

我现在的课题就是光学薄膜的均匀性问题，可是到了现在都快一年了，也就发了一篇关于均匀性的文章，而且现在针对光学薄膜的均匀性进行修正的时候，多是靠经验，但是发文章比较困难，因为均匀性和工艺联系很紧密，但是理论上的支持不够；

看了很多的文献，国外的和国内的，觉得这方面的好像不是很多，而且现在做的很多东西国外几十年前都已经做过了，如果把这个问题作为课题来研究的话，请问各位大侠：应该从那方面着手呢？最好还能和工艺联系的紧密一些，这是老板的要求，也就是说：最好能用到工艺上！

请各位大侠指教！

PS：各位在处理均匀性的时候，是按照什么标准来表示均匀性呢？中心波长？？还是直接测出物理厚度呢？

都行，你觉的方便就行

是啊你怎么知道的？

你也是哈哈

这个比较难做，我也在考虑，当然我们的行业可能更简单些

以下是引用天涯孤星在2004-5-27 13:02:22的发言：

这个比较难做，我也在考虑，当然我们的行业可能更简单些

是啊 理论上的东西太少

很多理论又不具备实用价值

成都的吧？呵呵

  均匀性一般用不同位置处的膜厚的相对偏差来表示，均匀性一般涉及到设备的几何配置、蒸发源的发射特性与蒸发稳定性，这可以从理论上来计算的，但有时设备还要考虑膜料的入射角，温度均匀性的影响，离子源均匀性的影响，从而带来的折射率的均匀性等。均匀性在一些高要求的膜的制造中，作用非常关键。这项课题需要多年的经验积累来做，厚积薄发。

楼上说的有道理，但是你也知道，里面有很多的随机情况。

不论是设备的几何配置，蒸发源的发射特性与蒸发稳定性，虽然说可以从理论上进行计算，但是在实际的镀膜过程中，每一次的厚度分布都是有差别的，很多时候在计算完几何配置来优化均匀性以后，就只能用挡板等方法去修正了，而且，Willey的书上也曾经提到，关于挡板的修正，理论上的东西实际很难提供什么帮助，关键是经验。

同意楼上所说的厚积薄发，确实需要多年的积累。