请教，如何合理为膜层分配坩埚?

敝司的晶控仪XDM-3K新近添加了用U盘导入膜系功能。这个功能需要在电脑上将诸如TFC等膜系转换成XDM-3K能识别的膜系文件。新XDM-3K要求膜系为使用点(穴)坩埚的膜层指定坩埚号，以便于自动转位。
于是，在制作膜系转换软件中，如何合理地自动为同种材料膜层分配坩埚号 就成了一个问题。

目前的策略有三种，但不太满意，先介绍如下
1， 几层共用， 例如用户设定3， 含义是3层同一种材料共用同一个坩埚；再遇该材料时，则坩埚号增加1，仍是3层共用一个坩埚号；如此循环递增。
2， 循环递增， 用户设定最大坩埚号，如12。则每遇一次点坩埚材料，则坩埚号增加1，到12以后再从1开始循环。
3， 总厚度小于，用户设定每个坩埚可蒸发的最大厚度，如500nm。 则转换软件累计每个坩埚号的已分配厚度，如果增加1层后厚度超过设定最大厚度，则递增一个坩埚号。

例如策略3，如果1号坩埚已累积厚度21nm，而后一层厚度为480nm，则根据现行策略，21+480 > 500，则后一层将被分配到2号坩埚。不太合理。

请各位帮忙看看，如何合理自动为膜层分配坩埚。或能否分享您平时是分配坩埚的方法。
先行谢过。

这个问题我觉得的不能一慨而论，我想我们针对的都是H层的膜料，L层用环形坩埚，不谈。说一点自己的想法：
1、设备：不同的镀膜机多穴坩埚数量不一，常规的有4穴、6穴、8穴等，多一些有20穴或者50穴。
2、膜系：常规的增透膜，简单点一个坩埚就可以搞定；再比如SWP或者LWP，50层以内的，每个H层大部分都是1个四分之一的光学厚度，物理厚度也一般不超过200nm，20穴的坩埚可以一个坩埚镀一层比较好，材料折射率稳定。如果坩埚数量少，可以根据膜堆分布，选择哪几层用一个坩埚，经验是处于同一个堆的用一个坩埚。如果一个坩埚的H层镀太厚，后面的折射率会慢慢升高，不知对不对？但如果碰上DWDM类型的膜系，一百多层，这中坩埚的分配处理方式，我也没什么经验，也希望有大神指教。
以上个人意见，希望对楼主有点帮助。

你们的晶控仪是否可以指定坩埚位置，如果可以，我的建议是根据每层膜层厚度指定坩埚号，可以是2层一个坩埚，也可以是3层或者其他，每个坩埚镀膜总厚度不超过200nm为宜

rollo_tomasi 发表于 2014-7-2 07:57
这个问题我觉得的不能一慨而论，我想我们针对的都是H层的膜料，L层用环形坩埚，不谈。说一点自己的想法：
...

谢谢分享。

在转换软件中，坩埚总穴(点)数是可以设定的，并且转换后将自动保存参数为下次使用。

目前，敝司晶控仪可分配有5位坩埚IO线，即最大可支持2^5=32个坩埚。如果有用户用的到50穴，可与我们联络，以升级软件支持(硬件不做改动，只是软件增加到6位坩埚线定义)。
如果点(穴)数足够多，例如20个，一个坩埚镀一层，则可以选择前面所言的策略2，循环递增，只需将坩埚总点(穴)数改为20。这样，在转换时，坩埚号将自动对应到相应层号。
当然，环形坩埚中，就不用指定坩埚号了。在本转换软件中，需将起始坩埚号指定为-1，或用后两种不带自动分配坩埚功能的材料，则该材料的坩埚号将被转换为0。 事实上，敝司晶控仪成膜时，如果对应材料设定为环形坩埚或不管，则忽略坩埚号。

至于折射率是否慢慢增大，本人也不清楚。但知道的现象之一是，坩埚内的材料变化后，控制的稳定性也会发生些许变化。

对于规整膜系，坩埚点(穴)位多，坩埚号自动分配策略或许相对简单些，用几层共用一个或循环递增就差不多够用。
而由软件优化出的非规整膜系，厚度不一，有的还相差甚大。
在坩埚点(穴)位有限又要做复杂膜系时，例如12个，某用户偶尔还要只用晶控做100层以上(有图为证)，呵呵。分配坩埚是要仔细点，现在的转换策略还不够用。
话说回来，如果坩埚数真的太少，还是做层数少点或允差大的膜系为好，呵呵。

如果根据膜堆来划分，如何让转换软件知道哪些层属于同一个膜堆是让人头疼的事。
幸好，转换后，用户可以再去手工更改坩埚号。

Mega9-C-103

wjwvsly 发表于 2014-7-2 10:58
你们的晶控仪是否可以指定坩埚位置，如果可以，我的建议是根据每层膜层厚度指定坩埚号，可以是2层一个坩埚， ...

敝司晶控仪可以为膜层指定坩埚位置，就是前面说的坩埚号。在该膜层成膜前，自动转位至对应坩埚。

en，总厚度不超过某一厚度是一个共识。剩下的的问题是如何把这个共识变成软件实现策略，而且能相对比较合理的处理各种膜厚分布。

谢谢。

我感觉每层用一个坩埚，再循环较好 如23456，23456，依次类推，当然有时候会出现不够用的情况，那就根据经验，自动也需要有经验的工程师来设定以达到最优化

xiaohuilee 发表于 2014-7-2 20:15
我感觉每层用一个坩埚，再循环较好 如23456，23456，依次类推，当然有时候会出现不够用的情况，那就根据经验 ...

谢谢。
如每层用一个，循环使用。前面说的 策略 2 就是的。

到底是循环用每个坩埚，还是一个坩埚用几层或累积一定厚度换下一坩埚，工艺人员可说说各自理由吗？

我觉得就用你的第3种策略，只是需要工艺人员在膜系软件里将超过总厚度的膜层分解成两层，这样对镀膜成果影响可以忽略不计的，因为我经常这样做的，张总你看这样行吗？

zouyou828459 发表于 2014-7-6 15:57
我觉得就用你的第3种策略，只是需要工艺人员在膜系软件里将超过总厚度的膜层分解成两层，这样对镀膜成果影响 ...

谢谢分享。//我听s工说起，才想起来，原来我们还真认识，呵呵。
是的，超总厚度时换坩埚是坩埚数量不够多时用的策略之一。难以避免的是，一个坩埚，总厚度会有时多一点，有时少一点。
正如您与 xiaohuilee 所言，有时还是需要人来参与的。
例如，单层超厚分成两层来，这样的问题，还是由工艺人员来做吧。

如rollo_tomasi所说，坩埚够多时，镀一层换一个或更优先，会省很多事。

三种策略同时提供，用户可以自己根据情况来选择，不满意时仍可以人工来修改。
用户甚至无需转换软件，直接修改所谓的膜系文件，因为文件是ASCII码，可以用记事本打开的，只要按照里面约定的格式来填写。

MorningTech 发表于 2014-7-6 17:36
谢谢分享。//我听s工说起，才想起来，原来我们还真认识，呵呵。
是的，超总厚度时换坩埚是坩埚数量不够多 ...

张总！你们最近都很忙吧，深圳光博会快要到了，到时希望能再见到你跟TANG总他们，我认为您的膜厚仪是最棒的！

zouyou828459 发表于 2014-7-6 21:28
张总！你们最近都很忙吧，深圳光博会快要到了，到时希望能再见到你跟TANG总他们，我认为您的膜厚仪是最 ...

谢谢吹捧。
2014年深圳光博会敝司(上海膜林科技有限公司)的展位为 7H19,  T总是 7H17、7H18， 连号的，敬请各位光临。
T总打算印制分类滤光片宣传册，我就等着他们宣传，然后我只要说一句：都是我们晶控仪做的。呵呵。

MorningTech 发表于 2014-7-7 09:16
谢谢吹捧。
2014年深圳光博会敝司(上海膜林科技有限公司)的展位为 7H19,  T总是 7H17、7H18， 连号的， ...

呵呵，您们的公司真是互相合作，共谋发展啊！有机会我也希望能再次用上您的膜厚仪，我想一定会的！