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光电工程师社区»光电论坛 › 光电理论及应用技术 › 光学镀膜技术及膜系设计 › 磁控溅射技术的原理与发展

[技术] 磁控溅射技术的原理与发展

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发表于 2015-7-12 21:29:41|湖北 | 查看全部 阅读模式
磁控溅射技术的原理与发展
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磁控溅射技术的原理与发展.pdf (120.74 KB, 下载次数: 9)
作　　者：王俊 郝赛
机构地区：山东大学材料科学与工程学院,山东济南250002
出　　处：《科技创新与应用》 2015年第2期 35-35页,共1页
摘　　要：磁控溅射技术因为其自身所具有的显著优点，已经被越来越广泛的运用于各个领域，其中以工业镀膜方面的应用最为广泛，相应的其生产技术也得到了很大的改进。文章着重讲述磁控技溅射技术的原理，特点以及磁控溅射技术的发展趋势。
关键词：镀膜技术 磁控溅射 平衡磁控溅射 非平衡磁控溅射
山东大学, 关键词, 文章, 技术, 创新
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