求助：真空钨丝加热镀铝反射膜的工艺

zhougg · 发表于 2004-12-10 04:28:00

请教高手，能否给一些详细的参数：比如真空度、加热铝的电流大小和蒸镀时间)、保护膜（SiO）的的电流和时间等参数。

先谢谢了！

zhougg · 发表于 2004-12-11 04:04:00

高手没露面，自己先顶一下！

xcy1075 · 发表于 2004-12-13 05:28:00

镀铝不是都是冷镀吗?

warms · 发表于 2004-12-19 05:51:00

pressure:8e-4Pa;current:320A;time:2min

DANNY · 发表于 2004-12-19 16:32:00

有什么问题！从200nm~2000nm的反射率，镀铝的表面质量以及牢固度等，我的经验应该都没有问题吧！

互相学习

ycxmy · 发表于 2004-12-20 05:09:00

请问这个膜好做吗：

入射角：45 （glass---glass Ng=1.84)

镀AL加介质内反射膜，要求：450nm--650nm R90%

zz · 发表于 2004-12-20 22:11:00

增强AL

DANNY · 发表于 2004-12-22 16:13:00

没有问题！应该很好做，从我DATE来看 AL+MgF2 也可以，保险一点用增强AL

67866110 · 发表于 2005-4-7 02:05:00

预溶时电流在120左右时间1分钟左右,,镀时从120加到260左右接一步步加在电流.镀SIO的时长最好不要超过两分钟,保护层30秒差不多了,我之前有镀过铝

zz · 发表于 2005-4-7 17:34:00

增强AL即多镀些介质膜,增加反射率而已.

zhouchen0510 · 发表于 2008-10-16 22:53:23

请问一下，镀铝对个真空度有没有什么具体的什么要求呢

zzzz · 发表于 2008-10-17 10:31:13

金属膜要求真空越高越好