这个膜是不是很难做？？？？

captainH · 发表于 2005-9-20 23:19:00

双面镀膜
S1：R≤0.2%@1064nm；T＞80%@650nm
45度入射
S2：R≤0.5%@1064nm；T＞80%@650nm；R＞98%@532nm
45度入射

zz · 发表于 2005-9-21 15:54:00

应该不会太难了
优化一下即可

captainH · 发表于 2005-9-21 16:04:00

我问了三个高手，都说很难做。
莫非ZZ兄弟乃神人也？？？

zz · 发表于 2005-9-21 16:24:00

算是可以,做起来只能说看工艺水平了.

wish · 发表于 2005-9-22 20:39:00

恩，不是很难做，修正一下次峰

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yzhuang · 发表于 2005-10-7 21:19:00

s1面还可以，S2面应该难吧，增透膜做到R＜0.5%当然没问题，但还要532NM高反的情况做1064NMR＜0.5%我想很难，设计上当然没问题，可做起来很难哦

chz321 · 发表于 2005-10-7 22:45:00

是啊，主要是能不能做的出来，

设计出来并不一定能镀的出来啊

dw19811111 · 发表于 2005-10-10 23:19:00

这个基片和膜料都是什么啊那位大大牛能告诉我一下么还有就是俺刚毕业用TFC怎么修改次峰啊

guizi315 · 发表于 2005-10-25 21:13:00

是要你做还是要你设计呀，基底和膜料选了吗？你哪个学校的？