问个很菜的问题,关于镀膜工艺

我做本科毕业设计,题目与宽带增透膜有关

按＂古典＂的三层膜模型可以用几种材料做出层数在个位数的薄膜，软件上模拟效果还不错。又照老师的要求搞了个两种薄膜材料相间的膜，有二十多层，效果也不比前一种好多少，几乎一样。
按《应用薄膜光学》上的说法是后一种的工艺简单，仅此一句而已。而老师让我编出一个不用前一种膜的理由。。。。。经典的模型，常见的膜料，没理由啊，查了好久了，没见过一个明确的说法。。。。。。。。
哪位高人给小弟指点下迷津

两种材料的一般是做一些难一些的膜系，制程稳定，宽带AR的话 还是用三种材料吧，更容易实现

要整个可见光带宽的ＡＲ，反射率要求也挺苛刻，我的前一种膜是三层膜模型，上层有效界面是个三层膜（为了改善波段两端的性能），所以层数不是三层，材料也不是三种．

＂制程稳定＂似乎关键点在这，能详细解释下，或推荐点资料吗？

谢谢

照楼主这样讲的,已经不是三层"古典"膜系了,在三层的基础上又加了其他膜料,其他层,这样一来,你从这几个方面来阐述:

1,材料的选择性

2,材料的匹配性

3,制程的稳定性.

仅供楼主参考.

三层膜,局部极值与总体极值的区别就比较大了,如果再继续增加膜层,增加膜料,多峰性问题就更加突出,所以在制程式中稳定性说凸现一般了.

资料方面很难提供,各种资料基本上大同小异.因为从我们的老祖宗起到我们基本上用的薄膜教材同出一辙.

老祖宗们用的是麦克劳德,是北京大学的顾九龄,伊树百先生译制的.70年代初中国的先辈们都聚集在北京统一培训,就是用的这个教材,当时还有现在的鼎鼎大名的唐晋发教授.他们用的是计算机中心的大型电脑,一小时人民币50元,但从开机到调好一小时就消耗完了.

后来培训完毕,很多工程技术人员各回岗位,唐教授则出国深造,回国后致力于薄膜技术推广.所以现在我们所见到的纷呈各异的相关专业书基本上源出一辙.

小侃一下,嘿嘿

Y2O3,AL2O3,ZRO2,MGF2

这是我用的材料,还有一层氧化铟锡

这些材料之间会不会出现金属化现象,或出现其他"变质"的反应?高中时化学是我最烂的一门,大学里根本没再碰过.......

楼主在此犯了一个错误:你只注重了材料的折射率,却没有考虑到材料的特性:

1,Y2O3一般用来做绝缘膜和保护膜,当然非要用来做增透膜也还尚可.

2,ITO用在这里就是一个大错误了,ITO是用来做导电透明膜的,用在数据显示屏上.它的透明度属于良好,如果用在玻璃基底AR膜上,效果适的其反.

楼主犯这个错误可以原谅.开始接触膜软件基本上都犯过这个错误.高手咱就不论了,我就犯过,呵呵

楼主是怎么排出来的呀,我把ITO放在最前面:

0.05ITO 0.25Y2O3 0.55AL2O3 2.1ZRO2 MGF2

好像这样还不如:

0.6SIO2 1.12AL2O3 2.1ZRO2 MGF2

呵呵

我的ITO是必需的,还有规定的厚度

ITO夹在膜层里效果比较好(我把它作选定层,规定的厚度很正点,比较好处理)