请教关于铝的溅射沉积(RF sputter coater)

chenyuansen · *发表于* 2007-8-28 16:32:46

各位专业人士你们好
我这里有台sputter coater系统，真空的级别大概是2.0E-4mbar,RF电源,总功率为200W左右,溅射功率为165W左右；最近发现了一个问题：对Cu,Fe,Co,Ni,Permalloy进行溅射沉积都没有问题(我采用Si,GaAs作为衬底材料)，但是始终没能实现铝的沉积，可是每次可以在厚度测量仪(Thickness meter)上面有厚度增加显示.我至今无法分析出原因，希望各位能给出自己的看法，提供宝贵的参考意见。
谢谢！

zzzz · *发表于* 2007-8-30 08:00:52

没能实现是啥意思?
是没镀上?还是膜掉了?

hydralisk-1 · *发表于* 2007-8-30 13:01:14

我用RAC1100C 溅射铝膜没问题。
你的意思是不是铝镀不上去？
在铝的溅射过程中，你能观察到铝靶材附近的放电现象吗？如果能正常放电那应该是没有问题的。
你那溅射系统的电源是13.56MHZ的？估计功率就很小了。我这里是40KHZ 10KW的。功率小，可能是溅射能量不够，没有产生足够能量的工作气体离子？
问你个问题啊
你那厚度测量仪器是什么原理的？类似晶振吗？

chenyuansen · *发表于* 2007-8-31 16:47:09

楼上地说得极对：
0,样品上没有Al的堆积；
1,可以很明显的观察到等离子体的光环；
2,溅射系统的电源频率为13.56MHz；
3,厚度测量仪是基于晶振频率的改变。
我得疑问是，铝和其他材料相比（Co,Cu,Ni,Fe）相比，有什么区别，为什么其他的在同等条件下可以有沉积，而Al偏偏没有？

chenyuansen · *发表于* 2007-9-2 15:59:14

希望得到更多宝贵的意见

happy3635 · *发表于* 2007-9-9 01:20:30

没能实现是啥意思?
是没镀上?还是膜掉了?

arieszg · *发表于* 2007-9-11 15:23:10

功率太小/时间太短/气体太少？？？？

arieszg · *发表于* 2007-9-11 15:25:20

还是铝的反光比较强，你的量测机台量不出？？？

无语了 · *发表于* 2008-1-6 07:11:20

哈哈,学到手都是知识啊啊

kinlee · *发表于* 2008-1-7 13:54:24

恩,多学习学习!我也是个新手啊!学成归来是不容易的!

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