光控测反射率时控制波长的选择

现在我想镀一个多层增透膜，中心波长为550nm，采用M2HL的结构，M为氧化铝，H为氧化锆，L为氟化镁。用光控（测反射率）的方法控制膜厚。现在我就搞不懂监控波长该怎样选择。我的理解是这样：镀膜中控制的是nd值，也就是针对这个膜系来说，M的厚度为137.5nm（四分之一的中心波长），H的厚度为275mm，L的厚度为137.5nm。当控制波长选用中心波长时（550nm），这三层膜的厚度分别为走一个极值、走两个极值、走一个极值。如果用275nm的波长来控制时，则别变成走两个极值、走四个极值、走两个极值。这样的理解对吗？是否可以用这样一个公式计算：如果结构为xMyHzL，当设计波长为a时，监控波长分别选择为xa、ya、za，这时都只走一个极值。当不是垂入射时，将xa、ya、za分别除以该材料中的入射角的余弦值即可。不知我这样的理解是否正确，希望得到各位高手的指点。

理解正确

理论上是这样没错，但实际上因为镀膜机的不同，还有老化等原因，控制波长比参考波长要偏差那么几个到几十个纳米的吧。
但问题是，我不知道怎么修正这个偏差值啊！哪位大哥99我啊。。。。

设计。镀膜。看结果直接调厚度。再镀····循环···

又进一步了，谢谢楼主

这样理解基本正确，但是太麻烦了，实际操作上会有些问题，如果监控波长不在
光控的光电管的灵敏范围，则燥声会很大。