这种镀DLC膜的方式你见过吗？

dongbeiren · *发表于* 2008-7-2 10:47:41

我查到一个镀DLC膜的方式，以前没有见过，请各位指点一下，是什么方式（名称）？有什么有缺点？谢谢指点！原理见附件！

nation · *发表于* 2008-7-4 00:01:13

没有见过我不敢下载金币太少了。

tfc · *发表于* 2008-7-4 08:21:03

我对DLC不熟,有哪位了解的请帮忙解释一下,大家都可以学习学习.

dongbeiren · *发表于* 2008-7-7 08:46:19

还得自己顶一下，论坛上的精英和专家呢？

xbimr · *发表于* 2008-7-7 14:14:15

这个是所谓的热丝化学气相沉积方法HFCVD方法（HFCVD也是制备DLC的一主流方法），或者说是一种离子源也可以，只是不是常规的离子源，以等离子体分解苯C6H6,直接沉积出DLC, 这种方法的SP3键应该在30-60%左右。这种方法在磁盘工艺上有使用，另一种是RF射频离子源。

还有一种离子源就是阳极层离子源和 RF射频等离子体源沉积也都可以直接沉积出DLC；阳极层离子源的优点是便宜些，但是能量范围较广，RF射频离子源沉积，缺点是价格比较昂贵，但是可以集中控制能量，因为从薄膜工艺的角度来说，做DLC希望的离子能量量级在100-200ev。

这三种方法沉积出来的DLC，由于使用碳氢气体分解直接沉积所得，必然是含氢DLC薄膜。

PS：需要用阳极层离子源和RF射频等离子体源做DLC方面的同志可以联系我，合适我可以提供技术参考和支持。

[ 本帖最后由 xbimr 于 2008-7-7 14:22 编辑 ]