请教！光学元件超光滑加工

向各位大哥请教一个问题：

小弟现在做光学聚焦元件，需要对Si片样品的2个截面进行减薄和超光滑抛光，希望将Si片样品截面深度减薄到20um左右，表面rms抛光到1nm以下，我现在依次采用15，3，1um金刚石砂纸和0.5um钻粉抛光液(聚胺脂抛光纸)进行减薄抛光，我的问题是：

1我的抛光液只将钻粉超声溶于去离子水，现在抛光出表面rms＝2nm，怀疑是钻粉颗粒没有分散均匀，是否需要添加分散剂或选用更小颗粒抛光液？

2我现在的研磨环境不太干净，就是普通的房间加一个水池，要达到1nm以下超光滑表面是否对环境要求很高，那我是否需要改进我的研磨室？

希望各位大哥不吝赐教，小弟现在在上海高校，如果有专门从事这种减薄或超光滑加工的老师，单位，也希望能与您讨论或合作！ 谢谢!

我的邮箱：hqs001@msn.com

聚胺脂抛光纸不适合用钻石粉，你可以用古典沥青抛光。环境你可以密封注意温度和湿度。

先谢谢楼上指点，我用聚胺脂抛光时，总会引入一些大划痕，我就是考虑是钻粉没有分散还是抛光纸选的不对，
至于环境，因为我现在与别的单位合作，但最终还是想能自己做，所以不知道自己建研磨室时，具体如何注意环境温湿度呢？
希望大家多多指教！：）

现在考虑如何正确使用我的0.5um抛光液和聚胺脂抛光纸，继续等待各位大哥及版主的指教...

试一下用QM-169系列悬浮剂吧