IAD、IBS、E-beam镀膜技术有何优缺点，烦请高人指点。

光学镀膜常用到这几种镀膜方式，请高人指点下技术上的优劣，还有不懂技术对镀膜材料是不是也有要求呢？

IBS>IAD>EB-G
此大于号为优于的意思

IBS>IAD>EB-G
此大于号为优于的意思
zzzz 发表于 2009-5-26 10:14

多谢回复，能否说的更详细点。
在薄膜的性质上有哪些体现呢？

高人都哪儿去了？来指点下。。

继续顶贴，等待高人来解答

无聊的问题。

无聊的问题。
jhxxmlhk 发表于 2009-5-27 20:42

想来阁下对这个问题是非常清楚了，还请不啬赐教！！！

IAD是主流。其它比较少。

EG和IAD本身成膜方式还属于蒸发，材料分子（原子）获得的能量上，EG最低，导致膜层致密度不高，散射和吸收损耗大，IAD辅助成膜，蒸发材料获能量要高，成膜质量要较EG好的多（当然，与所用的离子源种类也有关），是目前光学薄膜领域的主流制备方法，IBS(IBSD)在成膜方式上属于动量传递，与前面两者有根本不同，较前两者，材料分子获得的能量更大，所以成膜质量要更好，硬度和光滑度更好，主要用于目前高端的，要求极低损耗的激光膜等，相对而言，IBS制备方法，沉积速率要较前两者低许多，造价更高，但可控性，精切性要好。

楼上回复的太经典了!不过镀膜过程还是要靠人来完成，有经验的技术人员还是能补机器的缺点的！

人与机器都重要