光学镀膜磁控溅射镀膜机常见故障处理

polycold888 · 发表于 2014-11-7 08:34:10

光学镀膜磁控溅射镀膜设备从工序上区分，磁控溅射镀膜设备加工门类可分为镀前处理、电镀和镀后处理三大部分。磁控溅射镀膜设备后处理不是所有电镀加工都必须的工序，但镀前处理却是任何电镀都不可缺少的。从统计资料来分析，现代电镀认为40%的不合格品都来自于不良的镀前处理。磁控溅射镀膜设备前片理涉及的内容非常多，对于不同基材材质的处理方法与要求又不一样。但是磁控溅射镀膜设备前除油处理几乎是任何工件都不可避免的。但由于传统的水电镀毒性大，而磁控溅射镀膜设备工艺恰好弥补了很多水电镀的缺陷，近年来磁控溅射镀膜设备技术得到了广泛的应用，现国内磁控溅射镀膜设备厂家大大小小的也非常多，但是专注于磁控溅射镀膜设备生产，经验丰富的却造磁控溅射镀膜设备厂家，就一定会有一定的规模，这类磁控溅射镀膜设备不像是小件的东西，磁控溅射镀膜设备其技术含量非常的高，选购磁控溅射镀膜设备时一定要先了解。磁控溅射镀膜设备技术含量高，那么就一定要拥有一个非常强大的磁控溅射镀膜设备技术工程队伍，磁控溅射镀膜设备行业资深的专家，磁控溅射镀膜设备可根据用户的产品工艺及物殊要求设计配置。
一、磁控溅射镀膜机常见故障的排除膜层灰暗及发黑
(1)真空度低于0.67Pa。应将真空度提高到0.13-0.4Pa。
(2)氩气纯度低于99．9％。应换用纯度为99．99％的氩气。
(3)充气系统漏气。应检查充气系统，排除漏气现象。
(4)底漆未充分固化。应适当延长底漆的固化时间。
(5)镀件放气量太大。应进行干燥和封孔处理
二、膜层表面光泽暗淡
(1)底漆固化不良或变质。应适当延长底漆的固化时间或更换底漆。
(2)溅射时间太长。应适当缩短。
(3)溅射成膜速度太快。应适当降低溅射电流或电压
三、膜层色泽不均
(1)底漆喷涂得不均匀。应改进底漆的施涂方法。
(2)膜层太薄。应适当提高溅射速度或延长溅射时间。
(3)夹具设计不合理。应改进夹具设计。
(4)镀件的几何形状太复杂。应适当提高镀件的旋转速度
四、膜层发皱、龟裂
(1)底漆喷涂得太厚。应控制在7—lOtan厚度范围内。
(2)涂料的粘度太高。应适当降低。
(3)蒸发速度太快。应适当减慢。
(4)膜层太厚。应适当缩短溅射时间。
(5)镀件温度太高。应适当缩短对镀件的加温时间
五、膜层表面有水迹、指纹及灰粒
(1)镀件清洗后未充分干燥。应加强镀前处理。
(2)镀件表面溅上水珠或唾液。应加强文明生产，操作者应带口罩。
(3)涂底漆后手接触过镀件，表面留下指纹。应严禁用手接触镀件表面。
(4)涂料中有颗粒物。应过滤涂料或更换涂料。
(5)静电除尘失效或喷涂和固化环境中有颗粒灰尘。应更换除尘器，并保持工作环境的清洁
六、膜层附着力不良
(1) 镀件除油脱脂不彻底。应加强镀前处理。
(2)真空室内不清洁。应清洗真空室。值得注意的是，在装靶和拆靶的过程中，严禁用手或不干净的物体与磁控源接触，以保证磁控源具有较高的清洁度，这是提高膜层结合力的主要措施之一。
(3)夹具不清洁。应清洗夹具。
(4)底涂料选用不当。应更换涂料。
(5)溅射工艺条件控制不当。应改进溅射工艺条件
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longmin · 发表于 2015-2-2 20:33:05

maomao1112 · 发表于 2019-1-13 09:37:21

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