请教晶控方面的问题

用的360的晶控，当烘烤温度250左右时，预熔阶段晶控仪上常会有速率出现，但有时也会没有。
不知道引起晶控速率变化的原因是什么？
初怀疑真空室太脏，烘烤把残余膜料分子打出引起，后把真空室彻底清洗后，依然有上述问题出现。
也有晶控速率显示为0时，但不多，多半会有，且速率变化的频率和幅度不一。
难道是温度有梯度变化引起的？

水晶对压力,温度极为敏感
如果不是寿命以到
朝这两方面寻找答案准没错

LZ，360是在清场大甩卖，本身会有很多问题的。

同意。。。

1.shutter遮挡完全否？
2.晶控头冷却水；接线不良（振荡器）

水晶对压力,温度极为敏感
如果不是寿命以到
朝这两方面寻找答案准没错
longmin 发表于 2009-4-29 23:14

你说的压力，是指冷水的水压还是指真空室的大气压强？

冷却水的流量,晶控对温度还是比较敏感

兩者皆是
水壓不足溫度無法恆定
真空室的大气压强,變化大也會影響

检查晶振片的水温是否正常，另外还有一个就是电子枪二次电流干扰了晶振片引起的，你可以做一下试验测试一下不是这个问题引起的就好了。也可以加我QQ79293732直接交流。

电压和磁场干扰。晶片的有效度，管子里水是否有堵住。

晶振片速率不稳定
1. 参数设置不当     PID
2. 温度不稳定
3。探头保养不良，接触电阻不稳
4。源电子枪的问题
5。晶片表面污染
6。镀膜工艺（高应力--高速/低温）

怎么不 换晶振片啊，有问题了，还用，太崇外了吗，联系我，我送你几片试试看15068338773