高磁场强度矩形磁控溅射靶

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发表于 2007-2-4 07:23:00|美国 | 查看全部 阅读模式

上海纳微公司矩形磁控溅射靶采用国外先进技术设计,国内精心制造。我们的直线磁控靶机械部分采用三维计算机辅助设计,磁场部分用有限元方法优化设计。主要部件采用与真空环境相容性好的不锈钢和无氧紫铜。磁场采用高强度磁铁。表面最大磁场强度可达1000高斯以上。具有镀膜速度高,均匀性好,靶材利用率高,膜层致密,结合力好等优点。

矩形靶可长达200厘米以上。并可按用户特殊要求定做矩形溅射靶。除为客户提供直线靶外,我们还为客户各种进口镀膜生产线提供维修,翻新,改造直线磁控靶的服务。

上海纳微真空技术有限公司

电话:021-27977643 (华经理)

传真:021-62519389

电子信箱:nanovac@gmail.com

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