光控测反射率时控制波长的选择

现在我想镀一个多层增透膜，中心波长为550nm，采用M2HL的结构，M为氧化铝，H为氧化锆，L为氟化镁。用光控（测反射率）的方法控制膜厚。现在我就搞不懂监控波长该怎样选择。我的理解是这样：镀膜中控制的是nd值，也就是针对这个膜系来说，M的厚度为137.5nm（四分之一的中心波长），H的厚度为275mm，L的厚度为137.5nm。当控制波长选用中心波长时（550nm），这三层膜的厚度分别为走一个极值、走两个极值、走一个极值。如果用275nm的波长来控制时，则别变成走两个极值、走四个极值、走两个极值。这样的理解对吗？是否可以用这样一个公式计算：如果结构为xMyHzL，当设计波长为a时，监控波长分别选择为xa、ya、za，这时都只走一个极值。当不是垂入射时，将xa、ya、za分别除以该材料中的入射角的余弦值即可。不知我这样的理解是否正确，希望得到各位高手的指点。

结果不一样的原因是不是因为有挡板及基片与监控片的位置不同呢?

不能那样选的，要在可见光400-800选好，这与计算不多大关系，厚度是一样的用不同的波长

波长最好在400--1100nm，没有极值也可以啊！
你用的是什么机器啊？

要看你的单色器或是光电倍增管的波长范围的，不可能是你要什么波长就用什么波长控制，可以用短波控制长波，也可以用长波控制短波的，如我镀制λ=520NM AR,用560的波长控制的，也有用450的波长控制的，关键还要看设备情况及工艺设计。

度那种增透膜,看着颜色镀就可以了嘛

学习学习