求助AR光谱镀膜改进

红色的是客户给的样品
另一条是我做的

是2层AR TIO2+SIO2

如何让光谱左移  是不是要增加TIO2的厚度？
尽量和客户一致



谢谢 大家 我弄好了 是TIO2多了一些
现在光谱图很好
因为是磁控溅射做 所以 以前的H4啊之类的 都不能用
而且蒸发成膜速率比磁控快很多
太厚的膜系又不行 影响生产效率
厂里也没有膜厚仪之类的测试

看来是个620nm左右的单点AR，目前看来是镀厚了，但还无法分析是H偏多还是L偏多，建议你结合自己常做的可见区AR，估计H和L的比例系数是否正常。
你可以先试着减少TiO2，减少量需要自己把握，然后测试曲线观察效果，透射峰向短波方向移动的多少。注意，透射率不要出现下降，如果透射率也下降，那就是SiO2偏多l !

各位膜友，此话我收回，希望和大家一起讨论更多的镀膜话题。

红色弯曲厉害，你自己的比较平滑，说明H太少，L太多。

因为是用磁控溅射做AR 没有晶控 没有光控
膜厚未知的情况下做
基底是PMMA
所以个人感觉比蒸发难很多

因为是用磁控溅射做AR 没有晶控 没有光控
膜厚未知的情况下做
基底是PMMA
所以个人感觉比蒸发难很多

按时间，每次变化5%时间

1、稳定功率后TIO2溅射20分钟，SIO2溅射10分钟，测量厚度　计算折射率，计算时间平均每秒多少厚度　。
2、设计膜系，计算每层厚度需要时间

那就只能靠时间控制了

围观一下，没做过CVD

从光谱来看确实比较简单的一个膜，1.52/2HL/1.0 的结构就可以达成。（H:TI3O5 ,L:SIO2）只楼主提到没有膜厚监控设备。其实膜厚监控最原始的设备就是人眼，从视窗观察基材的颜色变化就能比较准确判断膜厚。当然控制时间也是一种方法，只是它与蒸发速率、真空度有很大的关系，不容易控制的很准确。

[quote]zouyou828459 发表于 2014-5-28 21:29
此位大侠说的有道理，我这次是没仔细看清楚那个曲线，就向楼主发“飚”了，向楼主致歉，希望楼主做好个产品，我给您添乱了。