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光电工程师社区»光电论坛 › 光电理论及应用技术 › 光学镀膜技术及膜系设计 › S-NPH2材料清洗时间差别为何如此大？

[讨论] S-NPH2材料清洗时间差别为何如此大？

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发表于 2012-4-18 20:46:23|河南 | 查看全部 阅读模式
两个材料同为S-NPH2的零件，形状略有差别，加工中使用的抛光粉一样，区别在于A抛光后直接泡入水中，然后超声波清洗，需要清洗15分钟，B抛光后擦拭干净后超声波清洗，只需要70秒，且B在加工过程中常出现腐蚀情况，光洁度也不如A零件好。请教各位大仙，原因何在呢？？？
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wazxq Lv.10 发表于 2012-4-19 06:16:49|广东 | 查看全部

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抛光粉不能干，只有水能去除抛光粉残留
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nkclone Lv.9 发表于 2012-4-19 08:22:22|福建 | 查看全部
B方式已经擦拭干净了，自然需要时间少吧~~
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