电子枪束流不稳定

jonying · *发表于* 2009-4-20 12:40:05

本帖最后由 jonying 于 2009-4-20 12:50 编辑

本人用的是日本机，在用电子枪蒸sio2时EMI电流有下降的趋势，设定125ma.刚开始有125过段时间《20-30秒》就只有110，高压有6060V，以前没有过这样，记得以前是5900V.请问有哪些可能的原因，我师傅被炒了，没人教，只有自学，还望各位不吝赐教本人邮箱jonying87@qq.com有什么资料都可以发给我，先谢谢你！

noodlesy · *发表于* 2009-4-20 14:54:15

1# jonying

是硅靶冲氧气吗?

jonying · *发表于* 2009-4-20 15:12:27

不是硅靶冲氧，是离子源冲氧气的

随风2008 · *发表于* 2009-4-20 20:47:35

你们有没有用水晶监控?如果有用,电流是会随蒸发速率而自动改变的.

jonying · *发表于* 2009-4-20 22:06:39

本帖最后由 jonying 于 2009-4-20 22:21 编辑

多谢楼上的兄弟！我们sio2是水晶控制的，速率0.14nm/s.到14nm厚停止，不过高压确实比以前高了！明天我再去仔细对比下速率和电流的关系。另外还想问下各位前辈们由于我没有人教，要怎样才有提升！很无奈。

zzzz · *发表于* 2009-4-21 08:23:27

高压是设定的,若会变则查查高压柜是否正常

jonying · *发表于* 2009-4-21 09:48:03

多谢楼上，今天也看了下速率超过设定值了，电流的确会下降，不过速率再降低的话电流上升不明显

jhxxmlhk · *发表于* 2009-4-21 13:42:43

蒸发速率才1.4埃/秒，这个速率太慢了。膜料是颗粒还是柱状的？
晶控的话两种功率反馈的模式，固定电流大小和自动调节的。要把 A/Sec/Power% 的参数设置好了，这个数值大点相对来说电子枪就反映迟钝点，调节到合适的数值就可以了。膜料premelting的参数要设置好了。
还是找个好师傅吧，入门先！有基础了后很多东西要靠自己去学习和摸索，毕竟知识和经验是要靠自己积累的，听到和看到的都是别人的东西，不是自己的。加油吧！

jonying · *发表于* 2009-4-21 17:27:16

本帖最后由 jonying 于 2009-4-21 17:32 编辑

首先很感谢楼上的朋友，我们的sio2是颗粒状的。power90%230A左右我镀的是手机视窗的防手指膜，还有个问题现在镀sio2后再镀的防手指那个药，速率在0.2-0.4A/sec.我发现现在两个钼舟的电流有点上下浮动，而且有时两个电流《RH1和2》相差10A.我怀疑钼舟质量问题，不知对不对，其实我也想找个师傅，可惜本车间没高手，所以只有来论坛麻烦大家了。

molang2003 · *发表于* 2009-4-21 18:03:40

你看下电子枪结构中，那两段铜丝的连接情况。看是不是连接有问题！

jonying · *发表于* 2009-4-21 18:29:55

应该不是铜线问题，我这九台机都这样，以前记得是5900

jhxxmlhk · *发表于* 2009-4-22 08:27:55

你是电子枪镀SiO2，阻蒸镀防水膜吧？其实防水膜用电子枪也可以镀，还节约成本，速率也快。你镀防水膜的速率太低，可能效果不好，一般都要5埃/秒以上。

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