ZEMAX（重庆）光学设计软件成像培训班2011年11月23-25日

ZEMAX（重庆）光学设计软件成像培训课程
开课时间：2011年11月23-25日  
开课地点:重庆市区  

● 主办单位
南京理工大学      电子工程与光电技术学院
光研科学有限公司 ZEMAX 软件亚太地区独家总代理 http://www.wavelab-sci.com.cn

● 课程形式
讲师讲授与学员互动式教学，课程均采用小班授课模式，下机讨论并指导上机练习，教材与PPT同步教学，通过理论联系实际的方式对学员进行讲解。

● 课程对象
光电企业、光学技术研究所、各大高校内从事应用光学和光机设计领域的研究和技术开发人员

●课程特色及内容
☆本课程为ZEMAX成像学习课程，专门针对刚接触ZEMAX设计软件或简单使用过ZEMAX设计的学员而设置，通过本课程密集培训和练习互动后，学员能达到独立轻松设计光学系统，并能进行分析及优化和公差评估。主要内容包括：
1、光学理论基础介绍，几何经典成像理论，像差理论，一阶光学与三阶光学计算像差，像差产生原因
及平衡像差的方法。
2、光学系统中孔径、视场、光瞳、光阑、F/#、主光线/边缘、渐晕、切趾等等光学术语解释。
3、光学系统设计实例，包括经典成像系统和无焦准直扩束系统的设计，从初始结构设计到最终系统分析、优化全过程。从简单的单透镜、双胶合设计到复杂的多重结构，变焦镜头、扫描镜头设计。
4、ZEMAX的优化技巧探讨，设定评价函数及评估系统性能的方法，优化操作函数的选择，玻璃材料的优化方法。
5、衍射光学理论，衍射极限系统分析，MTF传递函数定义及作为评价标准时对优化操作的要求。结合双高斯照相镜头实例进行MTF优化设计。
6、非旋转对称系统、多反射镜系统、离轴三反系统在ZEMAX中的模拟。使用坐标断点精确模拟系统偏心旋转的方法。结合牛顿望远镜设计实例精细讲解分析。
7、光学系统公差分析，模拟实际加工及装配中产生的误差，预测系统的可制造性能以及能否达到设计要求的标准。公差分析和操作详细步骤，蒙特卡罗结果分析集阐释。
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● 费用及优惠
3000元/人    ☆ 同一单位有三人以上报名客户    ☆ 光研软件购买客户或参加过光学课程的客户
        培训费用均享受8折优惠

● 培训证书
培训结束后，将颁发由美国ZEMAX原厂、光研科学有限公司联合授权签发的培训证书。

●其他事项
每位学员上课期间配最新版的ZEMAX原装正版软件使用，也可自带软件，统一安排培训
统一发放由美国原厂提供的ZEMAX培训教材，学员自带电脑，食宿需要自理（可提供中餐）
具体开课地点报名缴费后在开课前一周另行通知

● 报名咨询及热线
联系人：侯小姐    电话：025-57929358-808   传真：025-57929359
E-mail：nancy@wavelab-sci.com.cn  sales@wavelab-sci.com.cn

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