请教下如果真空抽速很快，在工艺方面该怎么调整

问题已经解决，谢谢

既然没有人回复我就做个直播帖子吧  今天尝试了下在8.0E-4做了工艺，zro2的充氧5.0E-3，温度230度，测得的折射率在1.9左右，500nm以后在1.87，sio2同样的工艺折射率在1.43，用此工艺做了个简单的增透，完全吻合，唯一不足的还是由于真空抽速太快导致系数变了，长波飘逸280nm，减小280nm测试，还是不行，又长波飘逸100nm，证明此真空下做不合适

ZR的参数我做了几组做比对，最后总结出来不充氧的话在高真空下，可能由于吸收太大，（没法做吸收测试，无法测反射只能测透过），折射率测的太低，而且每个极其不稳定，在压控5.0-3氧气下，比较高，2.0左右，也同朋友聊过这个问题，他们以前也是真空度高会导致折射率低，也许我做的折射率比较低是由于这个原因吧

明天还要更改下工艺，只能在更高的真空下做工艺了，看看有没有由于真空越高反而折射率越低的现象，最重要的是要tooling值比较稳定，如果有这方面的经验还望分享，让小弟少走下弯路了，明日再来发我实验的数据了

经过几天的实验终于搞定了，将TI的折射率提高至2.2左右

这种帖子不错，楼主继续

可以设置APC充氧控制镀膜真空度，这样的话每次镀膜的真空度就保持一致了

wjwvsly 发表于 2014-10-23 12:55
可以设置APC充氧控制镀膜真空度，这样的话每次镀膜的真空度就保持一致了

其实充氧虽然恒定，但是折射率的提高并非因此提高，主要还是要根据实际情况来做实际的调整，充氧量，温度，真空度各个方面的配合，现在我的ti的折射率不用离子源已经提高到了2.3，已经接近理想状态了，谢谢您的回复

折射率问题和真空关系不会很大，关键是要前后炉次的镀膜真空要恒定，APC恒压只能稳定的话Tooling控制就比较简单了
不知道用得是什么设备，一般镀什么产品