连续多室磁控溅射镀膜

lcm5732 · *发表于* 2007-7-24 22:30:10

这下看到图片了，好大的家伙，呵呵！
我做的是只有5个腔体的连续式磁控，RP+BP+DP和RP+BP+CP我都有做过，不知道和不和你那里的一样

huangdengpin · *发表于* 2007-7-25 20:06:47

我是搞韩国机的,这种有要小些.

风之炫彩 · *发表于* 2007-9-2 21:52:10

ulvac 这种立式的设备倒见过，不过使用在TFT7代以上。

bobo0508 · *发表于* 2007-9-3 08:56:42

我们公司也是试用莱宝的真空设备，好像比楼上图片的设备要老很多，呵呵！

zzzz · *发表于* 2007-9-3 09:08:02

真是好大啊
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飞天狐狸 · *发表于* 2007-9-7 14:21:50

设备本身很先进，但是由于设计时费用的缩减，使得功能很局限，也算是一个缺点，有需要交流的support@prochina.com

zinuo009 · *发表于* 2007-9-9 14:40:59

过隐
大家再发点图片

caodecd · *发表于* 2007-9-10 13:11:28

其实磁控溅射主要是靶子设计！现在都采用中频溅射技术镀制介质膜！另外就是分析膜系的作用！来制造设备！所以大小完全根据生产厂家对产品的要求和自身经济情况而定！我们是做设备厂家！光连续镀制L-E，有的厂家只要四层！而最多厂家要17层（可以做双银）！那样的话最大可以达130米左右！目前在国际上就阿登拉和我们做这样的产品！不过别个技术高多了！要不我们一直没有制造出柔性连续镀膜！而大家在这方面输给莱宝！