MDA-400M型紫外曝光机(光刻机)

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MYCRO韩国制造的紫外曝光系统，适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光。MDA-400M系统成功地应用于半导体制造，光电电子，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的技术要求。
系统组件：
紫外光源构造
带托盘的晶片工作台
配CCD镜头的显微镜
监视器
掩膜夹具
紫外光源透镜
紫外光源镜片
紫外灯电源系统
操作控制器
350W紫外灯

参数：
晶片台               
基底尺寸        标准尺寸 最大至4英寸；可选最大至6英寸；
托盘        标准尺寸 最大至4英寸；可选最大至6英寸；
活动范围
X：10mm  Y： 10mm  Z ： 10mm  Theta：        4 degree

对准精度        1um
挤入补偿        Air bearing型
Z轴滑动        手动
真空泵        无油真空泵
掩膜台       
掩膜夹具类型        真空吸附和机械夹取
紫外光源        
紫外灯        350 瓦
均匀光束大小        4.25“ X 4.25“
曝光模式        压缩/真空/相邻
曝光时间控制        可编程控制型
曝光定时器        1 ~ 999.9 秒
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