激光直写制作二元光学元件掩模研究

二元光学是指基于光波的衍射理论，利用计算机辅助设计，并用超大规模集成(VLSI)电路制作工艺，在片基上(或传统光学器件表面)刻蚀产生两个或多个台阶深度的浮雕结构，形成纯相位、同轴再现、具有极高衍射效率的一类衍射光学元件。由于实际制作出的位相轮廓，是以2为量化倍数，对理想的连续位相轮廓的台阶形状近似，故被称为“二元光学元件”。