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标题: 磁控溅射技术的原理与发展 [打印本页]

作者: 遗忘的回忆 时间: 2015-7-12 21:29
标题: 磁控溅射技术的原理与发展
磁控溅射技术的原理与发展
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作　　者：王俊郝赛
机构地区：山东大学材料科学与工程学院,山东济南250002
出　　处：《科技创新与应用》 2015年第2期 35-35页,共1页
摘　　要：磁控溅射技术因为其自身所具有的显著优点，已经被越来越广泛的运用于各个领域，其中以工业镀膜方面的应用最为广泛，相应的其生产技术也得到了很大的改进。文章着重讲述磁控技溅射技术的原理，特点以及磁控溅射技术的发展趋势。
关键词：镀膜技术磁控溅射平衡磁控溅射非平衡磁控溅射

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