2011年7月上海成像光学系统高级设计培训课程

南京光科信息技术有限公司光学设计高级培训课程

成像光学系统设计高级培训课程

地点：上海市 徐汇区 锦江之星
时间： 2011年07月21日 - 07月22日  共2天
成像课程费用 ￥3000元
电话：025-84305866  陈小姐
电子邮件：sunny&optotek.com.cn 将&换成@
在线报名：http://www.optotek.com.cn/liaise-index.htm


第一天
初级像差的产生及解决方法
结合透镜实例讲解像差理论
MTF传递函数激光光束
结合实例讲解镜头分辨率评价

课间休息
ZEMAX软件的优化方法及技巧
设计实例：非球面设计理论及优化
设计实例：经典双高镜头设计案例

课间休息
ZEMAX 高级优化技巧，锤形离散玻璃优化
手动编写控制像差的评价函数
课间休息
设计实例：产线高精密测量镜头设计案例
设计实例：CCTV监控镜头工程设计案例
设计实例：七种方法设计准直透镜

第二天
设计实例：激光扩束镜透射式
设计实例：离轴反射式两种案例
设计实例：激光F-theta扫描镜头设计
课间休息
利用ZEMAX的ZPL编写程序实现自定义的功能
ZPL 宏语言Macro自动批量添加操作数
镜头高级动态扫描模拟
激光光束整形器设计
高斯光变平行平顶光
案例结合光科独创设计优化技巧
课间休息
物理光学高级案例 结合高级宏指令
物理光学：激光光束传播
光线耦合及光线耦合效率的公差分析
宏指令批处理Macro高级应用案例
课间休息
光学系统的公差分析
进行模拟加工装配
此次培训的案例及总结

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