德国Roth&Rau公司MicroSys高精密磁控溅射系统

MicroSys 1400  MicroSys 2000

此系统装配有6个DC、脉冲DC或RF磁控溅射靶，呈放射状分散于真空仓体底部。一个与仓体去耦合的悬臂将沉积基底倒挂于磁控靶材上方。在获得不同靶材沉积速率的基础上，通过控制靶材绕不同靶材的公转与自身旋转，控制薄膜沉积的厚度，达到薄膜沉积的目的。于此同时，该镀膜系统可应用于梯度多层薄膜（Gradient Film）的沉积。

MicroSys 2500

该系统是针对超大尺寸天文镜的薄膜沉积系统。沉积基底最大直径2m，重2000kg。沉积时，基底置于真空仓下部，4个可自动转换的磁控溅射靶材悬挂在基底上方公转。通过改变靶材的转动速率、靶材与基底的距离，达到薄膜沉积的目的。

详情请参考技术博客http://opturn.blog.sohu.com/entry/8463781/
以及公司网站http://www.opturn.com/productsplist.asp?pid=97

该贴已经同步到 yang1268的微博