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[讨论] 行星盘与晶振探头位置的影响

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发表于 2011-9-29 17:03:24 | 显示全部楼层 |阅读模式
本帖最后由 ferry 于 2011-9-29 17:08 编辑

如题,把现有的伞状工件架换成了行星结构,结果出现了比较大的周期性干扰(晶控),如图
0.JPG




试着把小行星盘卸掉后,干扰则不再存在,如图
1.JPG


后来分析,是不是因为当放置小行星盘后,随着转动,对探头而言,会出现烘烤灯的辐射热量出现周期性变化,从而对探头形成干扰。
基于这一点,如果把探头位置向下放置,使其低于小行星盘位置,如图
2.JPG




是不是就可以解决此问题。
不知道,各位使用的机器中,探头位置与行星盘位置是如何放置的,是否出现过上述现象。
0.JPG
1.JPG
2.JPG
 楼主| 发表于 2011-9-29 17:09:41 | 显示全部楼层
图片没处理太好,烦请各位下载了来看,帮着分析分析,谢谢了
发表于 2011-9-29 19:00:38 | 显示全部楼层
就是这样的,你真聪明。
发表于 2011-9-29 20:03:42 | 显示全部楼层
探头和行星架上的挂盘在同一水平线上。也就是说探头要和镀膜的基片在一条线上,这样才可以收集到同样的数据
发表于 2011-9-29 21:50:09 | 显示全部楼层
想请教下出现的是什么现象的干扰啊?
发表于 2011-9-30 00:02:36 | 显示全部楼层
按理说,晶振在任何部位,只要位置固定,没有遮挡(甚至有稳定遮挡)厚度都应该可以通过Tooling Factor调整过来啊····
同问,请详细描述稳定干扰 的表现
 楼主| 发表于 2011-9-30 09:12:34 | 显示全部楼层
探头在成膜时,是不受任何遮挡的,问题在于烘烤灯对探头的辐射热量,却因转动而呈现周期性变化(工件盘会转动时,在某时刻会产生遮挡),
具体的干扰就是,当工件转动+烘烤,还未镀膜时,晶控就开始出现沉积速率(用的360),正负数值都有,如果是镀膜,在预熔阶段,原本平滑的直线,开始出现周期性小包,开始镀膜后,沉积速率变化相当之大,如果材料本身沉积速率较小,那么表现出来的速率则是一塌糊涂,惨不忍睹。
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 楼主| 发表于 2011-9-30 09:23:51 | 显示全部楼层
LILISRLHJ 发表于 2011-9-29 21:50
想请教下出现的是什么现象的干扰啊?

    是一种周期性的扰动,表现出来的现象就是镀膜的速率曲线不是直线,而变成类似正弦、余弦函数曲线的形状。
 楼主| 发表于 2011-9-30 09:25:15 | 显示全部楼层
wangxudong1227 发表于 2011-9-30 00:02
按理说,晶振在任何部位,只要位置固定,没有遮挡(甚至有稳定遮挡)厚度都应该可以通过Tooling Factor调整 ...

    是一种周期性的扰动,表现出来的现象就是镀膜的速率曲线不是直线,而变成类似正弦、余弦函数曲线的形状。
   
    并且,工件盘在转到一定角度时的确会遮挡住晶振探头。
发表于 2011-9-30 10:41:20 | 显示全部楼层
需要把探头下调,避免由于行星盘的转动产生遮挡探头的现象,目前探头出于腔体顶部,可以尝试从侧面安装,或者底部安装,调整一下tooling值就好了!
发表于 2011-9-30 21:19:56 | 显示全部楼层
想请教楼主您做什么产品需要换工件支架啊?还有就是之前的烘烤是上烘烤,还是下烘烤啊?
发表于 2011-10-2 08:04:03 | 显示全部楼层
行星的基本上度规格严的东西   哈哈 会不会是带通滤光片
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