ZEMAX中的近轴像高与实际像面的像高有什么区别？

近轴像面的像高和近轴像高是一样的吗？如果不是，有什么区别？使用PIMH（在指定波长的近轴像面上的像高）的操作数能用来控制聚焦系统聚焦光斑的大小吗？好像效果很差啊！请大侠们指点指点，谢谢！！

没大侠愿意帮忙解答疑问吗？？

近轴像面的像高是根据公式计算的理论值,实际象高考虑了畸变等影响了

近轴像面和实际的像面是同一个面吗？

近轴像面指是的高斯像面，而实际像面一般选取最佳像面。

"使用PIMH（在指定波长的近轴像面上的像高）的操作数能用来控制聚焦系统聚焦光斑的大小吗？"

象高来控制聚焦光班大小好象没听说过，这是两不同的概念。

那所谓的近轴像高就是在高斯面上的理论像高，而不是近轴光在实际像面上得到的像高了？

[B]以下是引用[I]qhw[/I]在2005-10-28 13:03:00的发言：[/B][BR]

"使用PIMH（在指定波长的近轴像面上的像高）的操作数能用来控制聚焦系统聚焦光斑的大小吗？"

象高来控制聚焦光班大小好象没听说过，这是两不同的概念。

那请问要用哪个或者哪些操作数来控制这个光斑的大小呢？还请指点一二，不胜感谢！！

别只指望用哪个操作数，把像差理论好好看一下吧。   
看明白了就会用操作数了。看不明白操作数估计也用不对。