I TO材料在减反射膜设计中的应用

diluoaosi · 发表于 2009-6-3 21:41:04

I TO材料在减反射膜设计中的应用

zzh1011 · 发表于 2009-6-3 22:12:53

看看！！！！！！！！

jonying · 发表于 2009-6-4 12:32:53

再顶…！！！！！！！！

shangss2003 · 发表于 2009-12-20 22:21:59

谢谢楼主了拿去学习了

涛哥 · 发表于 2010-2-4 08:15:49

不管怎样先下了看看！

sery1234 · 发表于 2011-2-22 16:03:53

ITO膜，没有做过，感觉挺高深的！

kpliu · 发表于 2011-2-23 15:55:18

我实验室专业从事各种镀膜、曝光、刻蚀研究，可附带从事加工服务。

镀膜厚度15纳米~1000纳米，同时可进行膜层厚度测试；其中磁控溅射材料可以为Cr、Ag、Al、Al2O3、ZnO、SiO2、Si、Si3N4，电子束蒸镀可以为Ag、Au、Al、Cr。

刻蚀有RIE和IBE，刻蚀厚度为20纳米~5微米。

有需要的可以联系，可根据客户要求加工。

欢迎来电咨询！

联系电话：

15108299816赵工邮箱：zyy44138172@126.com

I TO材料在减反射膜设计中的应用

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